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Campo DC Valor Lengua/Idioma
dc.rights.licensehttp://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0es_ES
dc.contributorCristian Felipe Ramirez Gutierrezes_ES
dc.creatorRené Francisco Sierra Morenoes_ES
dc.date2021-12-01-
dc.date.accessioned2022-01-11T13:41:38Z-
dc.date.available2022-01-11T13:41:38Z-
dc.date.issued2021-12-01-
dc.identifierSilicio porosoes_ES
dc.identifierCristales fotónicoses_ES
dc.identifierFotoacústicaes_ES
dc.identifierOxidación térmicaes_ES
dc.identifier.urihttp://ri-ng.uaq.mx/handle/123456789/3236-
dc.descriptionEl silicio poroso (PSi) es un material compuesto que, a lo largo del tiempo desde su descubrimiento en 1956, ha tomado importancia para el uso del silicio en la electrónica. Sin embargo, la naturaleza de su fabricación produce varias especies químicas que causan perdidas ópticas en estos dispositivos. En este trabajo de investigación se propone el uso de tratamientos térmicos enfocados a películas delgadas de PSi como una alternativa para la reducción de las pérdidas ópticas a través del cambio en la porosidad debido al llenado producido por la oxidación además del suavizado de las interfaces y paredes de los poros para la fabricación de dispositivos ópticos de PSi más estables y de mejor calidad óptica. Se fabricaron un total de 24 muestras de PSi distribuidas en 12 muestras de dos corrientes de anodizado usando monitoreo por fotoacústica. Se oxidaron las muestras de PSi junto a 12 sustratos de silicio cristalino (c-Si) bajo una atmósfera de aire. Todas las muestras fueron caracterizadas mediante espectroscopia infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) y microscopía electrónica de barrido (SEM) con el fin de conocer los cambios químicos y morfológicos que experimentan después del tratamiento térmico. Las propiedades ópticas se analizaron mediante espectroscopia UV-Vis antes y después del tratamiento térmico relacionando los espectros con las características de las monocapas utilizando el método de la matriz de transferencia (TMM), teoría de medio efectivo y algoritmos genéticos (A.G.).es_ES
dc.formatAdobe PDFes_ES
dc.language.isospaes_ES
dc.relation.requiresNoes_ES
dc.rightsAcceso Abiertoes_ES
dc.subjectINGENIERÍA Y TECNOLOGÍAes_ES
dc.subjectFÍSICAes_ES
dc.subjectÓPTICAes_ES
dc.titleModificación de la respuesta óptica de cristales fotónicos de silicio poroso a través de oxidación térmica para aplicaciones ópticas en el UV-VISes_ES
dc.typeTesis de licenciaturaes_ES
dc.creator.tidcurpes_ES
dc.contributor.tidcurpes_ES
dc.creator.identificadorSIMR980611HQTRRN09es_ES
dc.contributor.identificadorRAGC911105HNEMTR08es_ES
dc.contributor.roleDirectores_ES
dc.degree.nameIngeniería Físicaes_ES
dc.degree.departmentFacultad de Ingenieríaes_ES
dc.degree.levelLicenciaturaes_ES
Aparece en las colecciones: Ingeniería Física

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