Desarrollo de equipo automatizado para deposición química por vapor

Alejandra Rodriguez Gonzalez

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dc.rights.license	http://creativecommons.org/licenses/by-nd/4.0	es_ES
dc.contributor	AURELIO DOMINGUEZ GONZALEZ	es_ES
dc.contributor	ANGEL PEREZ CRUZ	es_ES
dc.creator	Alejandra Rodriguez Gonzalez	es_ES
dc.date	2012-01
dc.date.accessioned	2018-12-14T16:40:48Z
dc.date.available	2018-12-14T16:40:48Z
dc.date.issued	2012-01
dc.identifier.uri	http://ri-ng.uaq.mx/handle/123456789/889
dc.description	El proceso de CVD permite la aplicación de recubrimientos en forma de películas delgadas a componentes metálicos o cerámicos, obteniendo mejoras en propiedades mecánicas, químicas, eléctricas, catalíticas y ópticas, según se requiera. Los equipos para realizar CVD comerciales que existen en el mercado tienen un costo de adquisición elevado. Esta fue una de razones que motivaron la fabricación de una cámara en la cual se realice CVD a nivel laboratorio para dar apertura al equipamiento de las instalaciones de la Universidad Autónoma de Querétaro en el área de ingeniería electromecánica. La fabricación de la cámara para CVD se dividió en seis etapas principales. En la primera etapa se definieron las condiciones de diseño y se propusieron diferentes diseños para que en base a los resultados de los esfuerzos obtenidos de la simulación por el Método de Elemento Finito se selecciona el más adecuado. La siguiente etapa se trató de la fabricación de la cámara y selección de componentes .Posteriormente se implementó un sistema de control de apertura y cerradura de válvulas, temperatura y presión, en un dispositivo FPGA. El siguiente paso fue el diseño de la interfaz gráfica de usuario en el programa Visual Basic. A continuación se realizó la integración de la cámara, el sistema de control y la interfaz. Por último se realizaron pruebas. Las etapas anteriores permitieron una efectiva construcción y aplicación de los componentes del sistema. El diseño de la cámara se basó en los parámetros de operación para poder lograr un sistema flexible, confiable y seguro. En este estudio se programó la puesta en marcha dela cámara llevando a cabo pruebas de apertura y cerradura válvulas, control de presión y temperatura. Para garantizar el correcto funcionamiento, los controles de la cámara CVD fueron probados con diferentes referencias para asegurar que los valores permanecieran dentro los parámetros establecidos para lograr la deposición	es_ES
dc.description	The CVD process allows the application of coatings to metallic or ceramic components in the form of thin films, obtaining improvements in mechanical, chemical, electrical, catalytic and optical properties, as required. CVD commercial equipment on the market have a high acquisition cost. This was one of reasons for the development of a chamber in which CVD process is performed at laboratory level, serving as starting point for the equipment of the facilities of the Universidad Autónoma of Queretaro in the field of electromechanical engineering. The manufacturing of the CVD chamber is divided into six main stages. On the first stage, design conditions were defined and several designs proposed, selecting the most appropriate based on the stress simulation results obtained by the Finite Element Method. The next step was the manufacture of the chamber and selection of components. Then a control system for the valve opening and closing, temperature and pressure, were implemented on an FPGA device. The next step was the design of the graphic user interface in the Visual Basic program. This was followed by the integration of the camera, control system and the interface. Finally tests were performed. The above steps allowed the effective construction and implementation of system components. The chamber design was based on the operating parameters to achieve a flexible, reliable and secure system. In this study the setting up the chamber was scheduled, performing tests of opening and closing valves, pressure and temperature control. To guarantee the proper functioning, the CVD chamber controls were tested with different references to ensure that the values remain within the parameters set out to achieve deposition.	es_ES
dc.format	Adobe PDF	es_ES
dc.language.iso	Español	es_ES
dc.relation.requires	Si	es_ES
dc.rights	Acceso Abierto	es_ES
dc.subject	Camera of CVD	es_ES
dc.subject	Cámara de CVD	es_ES
dc.subject	FPGA	es_ES
dc.subject	FPGA	es_ES
dc.subject	Visual Basic	es_ES
dc.subject	Visual Basic	es_ES
dc.subject.classification	INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA	es_ES
dc.title	Desarrollo de equipo automatizado para deposición química por vapor	es_ES
dc.type	Tesis de maestría	es_ES
dc.creator.tid	curp	es_ES
dc.contributor.tid	curp	es_ES
dc.contributor.tid	curp	es_ES
dc.creator.identificador	ROGA780325MQTDNL00	es_ES
dc.contributor.identificador	DOGA680925HQTMNR02	es_ES
dc.contributor.identificador	PECA841027HQTRRN07	es_ES
dc.contributor.role	Director	es_ES
dc.contributor.role	Director	es_ES
dc.degree.name	Maestría en Ciencias (Instrumentación y Control)	es_ES
dc.degree.department	Facultad de Ingeniería	es_ES
dc.degree.level	Maestría	es_ES