Modificación de la respuesta óptica de cristales fotónicos de silicio poroso a través de oxidación térmica para aplicaciones ópticas en el UV-VIS

René Francisco Sierra Moreno

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dc.rights.license	http://creativecommons.org/licenses/by-nc-nd/4.0	es_ES
dc.contributor	Cristian Felipe Ramirez Gutierrez	es_ES
dc.creator	René Francisco Sierra Moreno	es_ES
dc.date	2021-12-01
dc.date.accessioned	2022-01-11T13:41:38Z
dc.date.available	2022-01-11T13:41:38Z
dc.date.issued	2021-12-01
dc.identifier.uri	http://ri-ng.uaq.mx/handle/123456789/3236
dc.description	El silicio poroso (PSi) es un material compuesto que, a lo largo del tiempo desde su descubrimiento en 1956, ha tomado importancia para el uso del silicio en la electrónica. Sin embargo, la naturaleza de su fabricación produce varias especies químicas que causan perdidas ópticas en estos dispositivos. En este trabajo de investigación se propone el uso de tratamientos térmicos enfocados a películas delgadas de PSi como una alternativa para la reducción de las pérdidas ópticas a través del cambio en la porosidad debido al llenado producido por la oxidación además del suavizado de las interfaces y paredes de los poros para la fabricación de dispositivos ópticos de PSi más estables y de mejor calidad óptica. Se fabricaron un total de 24 muestras de PSi distribuidas en 12 muestras de dos corrientes de anodizado usando monitoreo por fotoacústica. Se oxidaron las muestras de PSi junto a 12 sustratos de silicio cristalino (c-Si) bajo una atmósfera de aire. Todas las muestras fueron caracterizadas mediante espectroscopia infrarroja por transformada de Fourier (FTIR) y microscopía electrónica de barrido (SEM) con el fin de conocer los cambios químicos y morfológicos que experimentan después del tratamiento térmico. Las propiedades ópticas se analizaron mediante espectroscopia UV-Vis antes y después del tratamiento térmico relacionando los espectros con las características de las monocapas utilizando el método de la matriz de transferencia (TMM), teoría de medio efectivo y algoritmos genéticos (A.G.).	es_ES
dc.format	Adobe PDF	es_ES
dc.language.iso	spa	es_ES
dc.relation.requires	No	es_ES
dc.rights	Acceso Abierto	es_ES
dc.subject	Silicio poroso	es_ES
dc.subject	Cristales fotónicos	es_ES
dc.subject	Fotoacústica	es_ES
dc.subject	Oxidación térmica	es_ES
dc.subject.classification	INGENIERÍA Y TECNOLOGÍA	es_ES
dc.title	Modificación de la respuesta óptica de cristales fotónicos de silicio poroso a través de oxidación térmica para aplicaciones ópticas en el UV-VIS	es_ES
dc.type	Tesis de licenciatura	es_ES
dc.creator.tid	curp	es_ES
dc.contributor.tid	curp	es_ES
dc.creator.identificador	SIMR980611HQTRRN09	es_ES
dc.contributor.identificador	RAGC911105HNEMTR08	es_ES
dc.contributor.role	Director	es_ES
dc.degree.name	Ingeniería Física	es_ES
dc.degree.department	Facultad de Ingeniería	es_ES
dc.degree.level	Licenciatura	es_ES